金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示网络配资门户，杭州鼎能光电科技有限公司取得一项名为“一种涂覆湿膜中涂覆反馈与基片间距的调节装置”的专利，授权公告号 CN222805446U，申请日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显示，本实用新型涉及狭缝涂布设备技术领域，且公开了一种涂覆湿膜中涂覆反馈与基片间距的调节装置，包括大理石平台，所述大理石平台顶部固定连接有加工机构，所述加工机构表面固定连接有调节机构；所述加工机构包括滑轨，所述滑轨固定连接于大理石平台顶部，所述滑轨表面滑动连接有龙门台。该涂覆湿膜中涂覆反馈与基片间距的调节装置，通过设置的加工机构，在多次运行过后根据具体位移传感器的距离进行适应调节，即可在之后的运行中准确把握样品台的倾斜度在运行中根据此倾斜度自适应调节使得涂布头低端与样品台有足够的平行度来达到制作钙钛矿太阳能片的工艺要求，相比现有的即使更换了新环境也不需要使用手动调节。
天眼查资料显示，杭州鼎能光电科技有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本400万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州鼎能光电科技有限公司参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息14条。
本文源自：金融界
作者：情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端网络配资门户
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